Công dụng
Khắc vĩnh viễn, chống mài mòn: tem thông số (type plate), số seri, mã Data Matrix (DMC), mã vạch, logo, chữ lên thép, inox, nhôm, đồng thau, đồng, nhựa và bề mặt sơn.
Điểm mạnh
- Ba mức công suất: 20, 30, 50 W (cw), 1064 nm; đầu quét galvo SCANLAB, tốc độ khắc > 5.000 mm/s.
- Focus finder tích hợp (laser dẫn 650 nm) giúp đặt chi tiết đúng mặt phẳng lấy nét.
- Vùng khắc từ 69 x 69 đến 290 x 290 mm, tùy thấu kính F-Theta.
- Hai chế độ vận hành: độc lập (stand-alone), layout và font nạp một lần vào bộ điều khiển, khắc chạy bằng tín hiệu I/O số, không cần PC; hoặc Remote API qua TCP/IP để tích hợp PLC.
- Phần mềm CabLase Editor 5, hỗ trợ bộ đếm, ngày giờ, cơ sở dữ liệu, mã QR / Data Matrix động.
- Tùy chọn MOTF (Marking on the fly): khắc chi tiết đang chạy trên băng tải, không méo.
- Giao tiếp: 2 Ethernet, 2 RS232C, I/O số 8 vào/ra, Remote, Interlock/E-Stop, USB.
- Phải dùng cùng hệ thống hút và lọc có chứng nhận.
Ứng dụng
Tích hợp dây chuyền, khắc tem thông số, số seri, mã DMC, mã vạch, logo, chữ. Bản 4S/4S+ dùng khi chi tiết có nhiều mức độ cao khác nhau.
Các phiên bản
- XENO 4: nguồn laser Raycus; tần số xung 20 – 60 kHz (20 W), 30 – 60 kHz (30 W), 50 – 100 kHz (50 W).
- XENO 4+: nguồn laser IPG, tần số xung 2 – 500 kHz.000 giờ hoạt động).
- XENO 4S / 4S+: thêm dịch tiêu cự, bù chênh độ cao trong thời gian rất ngắn, không mất thời gian chu kỳ. Chỉ dùng thấu kính 160.2 hoặc 254.2.
- Công suất mỗi bản: 20, 30 hoặc 50 W.
Phụ kiện: thấu kính F-Theta, kính bảo vệ F-Theta, trục tuyến tính Z400 / Z200, bộ điều khiển trục 2S, hệ thống hút và lọc AF5.
Thông số kỹ thuật
| Thông số | 20 W | 30 W | 50 W |
|---|---|---|---|
| Công suất cw tối đa | 20 W | 30 W | 50 W |
| Tần số xung XENO 4 / 4S (Raycus) | 20 – 60 kHz | 30 – 60 kHz | 50 – 100 kHz |
| Tần số xung XENO 4+ / 4S+ (IPG) | 2 – 500 kHz | 2 – 500 kHz | 2 – 500 kHz |
| Công suất tiêu thụ tối đa | 200 W | 200 W | 350 W |
| Thông số chung | Giá trị |
|---|---|
| Nguồn laser | Laser sợi ytterbium, xung, làm mát gió |
| Năng lượng xung | 1 mJ |
| Bước sóng | 1.064 nm |
| Chất lượng chùm tia M² | < 1,8 |
| Độ rộng xung | < 120 ns |
| Cáp nối khối điều khiển – đầu quét | 2,5 m (dài hơn theo yêu cầu) |
| Lắp đầu quét | Ngang / dọc |
| Tốc độ khắc | > 5.000 mm/s |
| Laser dẫn | 650 nm, < 1 mW |
| Bộ xử lý / RAM / Flash | 32 bit 600 MHz / 256 MB / 512 MB |
| Khối điều khiển | 420 x 178 x 420 mm, tủ rack 4 RU 19″, 16 kg |
| Nguồn điện | 100 – 240 VAC, 50/60 Hz |
| Công suất chờ | 65 W |
| Chứng nhận | CE, FCC Class A |
| Cấp an toàn laser (EN 60825-1) | Nguồn laser: Class 4; laser dẫn: Class 2 |
| Thấu kính F-Theta | 100.2 | 160.2 | 254.2 | 420.2 |
|---|---|---|---|---|
| Khoảng cách làm việc | 149 ± 4 mm | 210 ± 8 mm | 310 ± 8 mm | 549 ± 20 mm |
| Vùng khắc | 69 x 69 mm | 112 x 112 mm | 180 x 180 mm | 290 x 290 mm |
| Đường kính điểm hội tụ | ~25 µm | ~35 µm | ~50 µm | ~85 µm |
| Độ phân giải | 1.000 dpi | 725 dpi | 500 dpi | 300 dpi |
| Dịch tiêu cự (XENO 4S / 4S+) | Thấu kính 160.2 | Thấu kính 254.2 |
|---|---|---|
| Khoảng dịch | ± 35 mm | ± 70 mm |
| Vùng khắc | 100 x 100 mm (+35) đến 135 x 135 mm (−35) | 160 x 160 mm (+70) đến 250 x 250 mm (−70) |
| Tốc độ dịch | 0,5 mm/ms | 0,3 mm/ms |
| Trục tuyến tính | Z400 | Z200 |
|---|---|---|
| Hành trình | 440 mm | 200 mm |
| Tốc độ tối đa | 60 mm/s | 20 mm/s |
| Tải trọng | 10 kg | 7 kg |
| Khối lượng | 16 kg | 9 kg |


Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.